大立光告先进光侵害营业秘密 先进光判赔15亿余元
S171208Y1.S171208Y4 | 2018年1月号 回上一页    
 大立光电股份有限公司状告先进光电科技股份有限公司侵害营业秘密等事件,经智慧财产法院历时四年之审理,一审判决先进公司及共同被告等需赔偿大立光电共15亿2千余万元;先进公司于2018年1月15日发布重大讯息表示,该公司已依法提起上诉。
 智慧财产法院于2017年12月7日发布判决新闻稿,本件之事实及理由概要如下:
 一、本院102年度民营诉字第6号营业秘密损害赔偿等事件,原告大立光电股份有限公司起诉主张,原任职于原告公司之四名工程师于2011年5、6月间先后跳槽至被告先进光电科技股份有限公司,将原告之7大项营业秘密技术窃取至被告先进公司,以协助被告先进公司发展镜头自动化生产制程,并进一步将其中部分技术向经济部智慧财产局申请专利获准(我国第M438320号「点胶针头结构」新型专利、第M438469号「遮光片送料机构」新型专利),使原告之营业秘密内容为一般公众所知悉,侵害原告所有之著作财产权及营业秘密。原告对被告先进公司及其负责人林忠和、原任总经理罗章浚及四名工程师邹博丞、谢炘颖、朱威丞、翁宗震,请求排除侵害,及确认上开二项专利之专利申请权及专利权均为原告所有,并请求被告等连带赔偿新台币15亿2千余万元。
 二、本院于2015年10月30日作成中间判决,认定原告所主张之7大项技术全部均为原告自行研发之营业秘密,除了其中一项「胶水储存装置」,无法认定被告等有窃取行为之外,其余之技术内容,被告等有侵害原告的著作财产权及营业秘密之行为。
 三、本院于中间判决之后,曾劝谕两造试行调解,于2016年8月16日调解不成立,乃续行调查损害赔偿程序,并于2017年12月6日作成终局判决。关于原告上述请求排除侵害,及确认二项专利之专利申请权及专利权为原告所有部分,均予准许(除「胶水储存装置」之外);请求损害赔偿部分,本院认为原告为了研发本件营业秘密技术,历年来共支出研发费用6亿余元。且营业秘密一旦丧失秘密性,营业秘密所有人可单独享有、使用该秘密信息之优势地位即不复存在。又营业秘密所有人对于该秘密信息后续将如何被散布或使用,已完全无从掌控及防止,营业秘密所有人为研发该营业秘密付出之时间、劳费无异毁于一旦。而以不法方式获得秘密信息之第三人,可不需支付相对之代价,平白享用他人辛勤努力的研发成果获有利益。由原告公司在塑料镜头产业之高市占率及远高于同业之利润等表现来看,足认系争营业秘密为原告公司带来巨大的经济价值,已超过原告所主张之研发费用。故原告主张以本件营业秘密之研发费用,来计算损害赔偿,为有理由。又因被告等系故意侵害且情节重大,原告可依营业秘密法第13条第2项规定,请求三倍之惩罚性损害赔偿金即18亿余元。原告起诉请求15亿2千余万元,未超过上开金额,故原告请求被告等人连带赔偿15亿2千余万元全部准许。(2017.12)

资料来源:
经济日报20171208/A3
工商时报20171208/A3
智慧财产法院新闻稿
20171207