審査官との面接、新制度が2017年7月1日からスタート
J170703Y1 | 2017年7月号(J215) 前のぺージに戻る    
    知的財産局の公告によると、2017年7月1日から面接の新制度がスタートすると同時に、「專利案面詢作業要點(専利出願案件に関する面接作業要点)」*を改正するという。同要点では、従来当事者の意思表示が不明確であることにより生じていた面接要否に係る争議を回避するため、当事者による面接の要請において「面詢申請書(面接要請書)」**を提出することを義務付ける。さらに面接申請書には面接事項及び説明を記載しなければならない。双方が面接を行うにあたり意思疎通に役立つように、面接において意思疎通を図りたい議題を具体的に記述する。(2017年7月)

訳註
*:「専利」には特許、実用新案、意匠が含まれる。
**:日本の「上申書」に相当。