立院三读通过　专利优惠期放宽至12个月

　立法院院会于2016年12月30日三读通过专利法部分条文修正草案，放宽专利优惠期制度相关要件及规定。为保障专利权人之权益，将发明及新型专利申请之优惠期期间，自现行的6个月放宽为12个月；并将发明、新型及设计专利得适用优惠期之公开态样，放宽为申请人出于本意或非出于本意之公开皆得适用；同时删除须于申请时声明主张优惠期之程序要件。

　此次修法松绑专利优惠期制度相关要件及规定，扩大为申请前公开之人获得专利保护之可能性，有利于创新及技术的流通。新修正条文之施行日期将由行政院另行订定。（2016.12）

资料来源：

中央社20161230