未经授权重制20奈米制程技术 南亚科前工程师判刑1年10个月

S240304Y4 2024年4月号

  台塑集团旗下DRAM厂南亚科前资深工程师李智存,被控为求顺利至中国西安紫光公司任职、谋求高薪,于2016年利用个人计算机屏幕截图方式,复制南亚科最新制程技术20奈米晶圆制程,最高法院维持历审见解,认定李男犯「意图在大陆地区使用,未经授权而重制营业秘密罪」,判刑1年10月定谳。

  李男在得知南亚科于2016年自美商美光公司引进20奈米晶圆制程技术后,利用参加在线训练课程及假日的时间,在办公室以个人计算机屏幕截图方式,将20奈米晶圆制程文件复制打印且加以研读熟记,并于2017年1月17日前往中国紫光公司面试求职未成。而后南亚科于针对离职人员进行例行性影印纪录稽查时,发现李男有异常大量之影印纪录,细究后惊觉李男竟然曾将20奈米制程文件完整打印,径向法务部桃园市调查处报案,检方侦结将李男起诉。

  经法院审理,李男坦承有以屏幕截图方式,下载20奈米DRAM晶圆制程介绍投影片再打印,并接受紫光公司视讯面试或赴中国面试,但辩称投影片内容并非营业秘密,打印仅为了自我充实。

  然桃园地院一审、智慧财产及商业法院二审均指,根据相关证据可知,李智存撷取之文件,包括20奈米DRAM晶圆制程原理、数据、问题、技术、实现及重点等内容,都非一般从事DRAM晶圆制造的人可轻易知悉,且对产能及良率有重大影响并具有重大经济价值,因此认定李男撷取之数据为南亚科之营业秘密。

  一、二审考虑李男明知未经授权不得重制南亚科之营业秘密,却为了转职面试而重制具有重大经济价值且攸关企业存续与否的先进制程技术,并审酌李男否认犯行,依法判刑1年10月,最高法院驳回上诉确定。(2024.03)


资料来源:
自由时报电子报 20240304

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