美光控告联电窃取营业秘密案 联电遭判处罚金1亿元
S200613Y4 | 2020年7月号 回上一页    
 美国内存大厂美光(Micron)2017年在台湾向晶圆代工厂联电提出诉讼,控告联电协助中国晋华窃取美光DRAM制程案,台中地方法院6月12日依违反营业秘密法等罪,判联电前员工戎○天6年6个月徒刑、并科罚金600万元,何○廷5年6个月徒刑、500万元罚金,王○铭4年6个月徒刑、400万元罚金,联电也遭判处罚金新台币1亿元。
 美光指出,针对此重大违反营业秘密法之刑事案件,欣见台中地院对联电及其涉案三名员工做出有罪判决,美光对台中地方法院及司法机关的适切处置深表感谢。
 对于判决结果,联电指出,公司将依法对有罪判决及高额罚金提起上诉,并提出本案调查及审理过程中诸多违反刑事诉讼法规定的可议之处,强调相关DRAM制程技术的研发为当时已获核准之项目,以自有技术为基础,由三百多位工程师组成的研发团队通力合作,耗时超过二年自主开发DRAM制程,且保留相关研发纪录,并未违反营业秘密法。(2020.06)

资料来源:
经济日报20200613/A3
中时电子报20200613