昇陽半導体の宜特科技に対する特許侵害訴訟、二審判決でも昇陽半導体の特許は無効

J210605Y1・J210604Y1 2021年7月号(J263)
    昇陽国際半導体股份有限公司(Phoenix Silicon International Corporation、以下「PSI」)が宜特科技股份有限公司(Integrated Service Technology Inc.、以下「iST」)を相手取って特許侵害訴訟を提起していたが、知的財産裁判所が一審判決でPSIの特許権を無効と認定したのに続いて、同裁判所は二審判決でも特許権無効と認定し、上訴を棄却した。
    iSTによると、PSIは知的財産裁判所が2020年6月23日に下した一審判決を不服として上訴を提起し、PSIのI588880号特許権がiSTに侵害されていると引き続き主張したという。
    知的財産裁判所は二審においても、PSIのI588880号特許「ウエハ薄化工程(中国語原文:晶圓薄化製程)」は通常の知識を容易に組み合わせてなし得るものであり、進歩性を有さず、特許権は無効であるとの判決を下した。(2021年6月)

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