昇陽半導体の宜特科技に対する特許侵害訴訟、最高裁が昇陽半導体の上訴を却下
J211013Y1 | 2021年11月号(J267) 前のぺージに戻る    
    昇陽国際半導体股份有限公司(Phoenix Silicon International Corporation、以下「PSI」)は2019年9月知的財産裁判所に、宜特科技股份有限公司(Integrated Service Technology Inc.、以下「iST」)がPSIのI588880号「ウエハ薄化工程(中国語原文:晶圓薄化製程)」特許権を侵害しているとして訴訟を提起した。2020年6月に知的財産裁判所の第一審で、PSIの特許は無効であるとの判決が下され、PSIはこれを不服として上訴(訳注:控訴に相当)した。2021年5月の知的財産裁判所による第二審判決でも、再びPSIの特許は無効であると認定されたため、PSIはさらに最高裁判所に上訴(訳注:上告に相当)を提起していた。
    最高裁判所の裁判官は、PSIが法に定められる手続きを踏んで本件上訴を提起しなかったとして上訴を却下すると同時に、知的財産裁判所の第二審判決を認めており、即ちPSIの第I588880号特許権が通常の知識を簡単な組合せであり、さらにPSIは第二審ですでにその「ウエハ薄化工程」が周知の技術であると認めているため、進歩性を有さず、特許権は無効であると認めた。これにより、本件はすでに終結し、PSIは上訴することができない。(2021年10月)