특허 출원관련 제삼자의 의견 양식, 2020년 9월 1일부터 시행
K200901Y1.K200825Y1 | Sep. 2020(K253) 첫페이지로 이동    
대만 지재국은 보도 자료를 통해, 특허의 품질 향상은 지재국이 추구하는 목표라고했다. 특허출원은 출원후 18 개월 만에 공개된 그 시점에서 관련 분야의 기업과 일반인 (즉 제 삼자)에 의해 선행 기술 정보의 제공을 강화하는지 여부는 국제적으로 봐도 특허권의 안정성을 확보하는데 유리한 조치라고 말했다.

이와 관련, 대만 지재국은 특허법 시행 세칙 제 39 조 규정을 이행하고, 특허 심사의 제 3 자 의견 제도를 보다 충실하기 위해 2020년 8월 2일에 「특허 출원 제 3자 의견 작업 요점(양식)」을 제정 공포하고 9월 1일부터 시행키로 하였다.

해당 시행을 통해 관련절차의 핵심을 양식화함으로써 일반인의 참여 절차가 보다 명확하게 될 것을 기대하고 있으며, 또한 지재국의 공개 특허 검색 시스템에서는 일반인의 의견 제출을 위한 편리한 채널을 제공할 예정이고, 일반인이 제공한 인용 정보에 대해서는 특허신청자에게 통보하고 인용 목록을 공개할 예정이다. 일반인에 의한 귀중한 제 3자 의견은 특허 심사의 질을 높이기 위한 유용하게 사용될 전망이다. 이러하 운영이 원만히 구현되면 특허 출원자, 산업당담자 및 지재국 모두에게 도움이 될 것으로 기대되고 있다. 

1. 출원인에게는 지금까지 매년 약 100 건에 이르는 제삼자로부터의 인용 문헌 제공이 있었으나, 제공자의 90 %는 인용 문헌 정보의 비공개를 요구하였기에, 출원인이 바로 참고하여 등록 평가 이전에 최적의 보정을 행하지 못하고, 나중에 무효 심판을 청구되어, 출원인이 많은 시간과 소송 비용을 낭비하는 상황이 발생했었다.  이번 조치로 제삼자 의견을 제출했다는 사실을 인식하고 즉시 출원인에게 통지함으로써 출원인의 권익이 보호될 뿐만 아니라 출원인 자신의 특허의 안정성도 높아지고, 출원인이 국내외에서 특허 포트폴리오를 구축하는데 도움이 될 것으로 사료된다.
2. 해당기술과 관련된 산업계는 편리한 제공 루트와 지재국이 제공하는 기입양식을 통해 기업과 대중이 심사의 참고가 되는 선행 기술 문헌과 의견을 보다 쉽게 제공할 수 있게 된다. 또한 의견의 제출시기도 완화되어, 출원인이 실용 신안과 특허를 동시에 출원한 경우, 실용신안은 평균 2 개월여 만에 방식심사가 완료되어 버리기 때문에 기업과 일반인은 18 개월 후 공개 기다릴 필요가 없고, 실용 신안이 공개 된 후 관련 선행 기술 문헌과 의견을 곧바로 제출할 수 있다.
3. 지재국에 있어서는 대외적으로 공개되는 특허 검색 시스템에서 유용한 의견 제공의 루트로 기입 양식을 제공함으로써 제3자가 인용 정보를 제공하는데 있어서 의욕을 높이고 편리성을 제고하고, 그로 인해 심사관이 선행 기술의 증거를 파악하는 데 효과도 높아지고, 해당 무효 심판에 따른 행정 비용 절감에도 도움이 될 것으로 예측된다.

전반적으로, 이 작업 요점의 제정을 통하여, 해외와 보조를 맞추는 동시에 일반인의 특허 심사에 참여를 효율적으로 촉진하고, 특허권자가 더 낮은 비용으로 특허권의 유효성을 확보하며, 대만의 특허 심사의 품질을 더욱 향상시킬 것으로 기대된다.(2020.08)