지혜재산국, 특허법 일부 조문 수정안의 2차 공고

K210622Y1 Jul. 2021(K263)
지혜국1)은 특허법 일부 조항 수정안의 2차 공고를 발표하였다. 수정 조문은 총 79 조에 이른다. 2차 원고와 초고를 비교하면 주요 변경 사항은 다음과 같다:
1. 분할 출원시기를 완화
이번에 분할 출원시기를 크게 완화하여, 출원인은 최초출원의 거절 사정서 송달후 2 개월 이내 또는 복수심 절차동안 분할 출원을 할 수 있도록 하였다.
 
2. 특허 출원권 및 특허 소유권을 다투는 민사 구제에 관한 관련 조치를 추가
특허 출원권 및 특허 귀속에 관한 분쟁에 대해 소송, 조정 또는 중재 등의 민사상 절차에 의거하여 구제를 요청하는 경우 당사자는 지혜국에 그 심사, 심의 및 기타 수속 등의 권리 이동에 관한 절차를 잠정적으로 중지하도록 신청할 수 있도록 하였다.
 
3. 특허 분쟁 소송에서 새로운 증거를 제출할 수 있는 이유를 추가
구제의 효과를 높이고 특허해제 심의 즉, 특허무효 심판 사건의 특수성을 고려하여 해제 심의 청구인 또는 참가인이 특허 분쟁 소송에서 새로운 이유 또는 새로운 증거를 제출할 수 있는 이유를 명확히 규정하였다.
 
4. 분쟁 소송에서의 판결 방식 명시
법원은 향후 특허분쟁소송 업무의 원활한 운영을 위하여 특허분쟁소송에 대한 판결 방식을 명확히 하였다.(2021.06)
 
역주:
1) 대만 경제부 지혜재산국(經濟部智慧財產局, 약칭, 지혜국)을 지칭하며 한국 특허청에 해당한다.
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