商標法大修氣味、動態等商標將納入保護

C080826Y2・C080825Y2 2008年9月號

經濟部智慧局25日舉辦商標法修正草案公聽會，這是繼2003年修正後，商標法翻修幅度最大的一次。此次修法將擴大商標保護對象，增加氣味（Scent marks）、動態（Motion marks），及全像圖（Hologram marks）三種非傳統商標。
　現行商標法條文共94條，此次將修訂38條、增訂23條、刪除8條，修正幅度達三分之二。
　智慧局配合2006年「商標法新加坡條約」精神，可促進產業發展及保障業者努力成果，都可以成為商標註冊保護的對象。商標註冊朝開放的方向進行，幾乎是不限任何形態都可申請，但這也意謂，未來在審查認定會增加困難度，因此，審查要件的重點，會更強調申請人的舉證責任。申請人必須將保護主體，透過文字及圖像、符號等方式具體呈現，以描述氣味及動態商標的識別性及權利範圍，避免與其他業者的商標近似，造成消費者的混淆，未來修法通過後，將在施行細則規範細部審查要件。
　另外，對工商界較有影響的還有新增第17條之2的「展覽優先權」，讓常在展覽場上秀出最新商品與商標的企業，可以在展出六個月內，將展出的日期作為商標申請日，提出申請。而且國際展覽只要有國外商品參展即可，也不限在台灣展出。

商標法修正案重點
條文	主要修正及增訂內容
第5條	擴大商標保護對象，納入動態、氣味、全像圖等非傳統商標。
第17條之2	增訂展覽優先權，我國雖非巴黎公約會員，但將依據TRIPS協定，將展覽優先權的相關規定納入草案修正。
第22條之1、第38條之2	明訂商標的申請、移轉、分割、縮減授權等。
第33條、第33條之1	增訂專屬授權及非專屬授權的相關規定，由於侵權時，專屬授權與非專屬授權的效力不同，此次修法將明確規定如何區分。