Nanya의 전 엔지니어, 20나노 D램 공정 기술 무단 복제 1년 10개월 선고

대만 플라스틱¹⁾산하의 D램 제조업체인Nanya²⁾에서 시니어 엔지니어로 일했던 리즈춘(李智存)은 중국회사인Xian³⁾으로 이직하여 높은 급여를 받기 위해 2016년 컴퓨터에서 스크린샷 방식을 통해 Nanya의 최신 기술인 20나노 D램제조 공정 기술을 복제했다고 대법원은 판결했다.

피고 이(李)씨는 Nanya가 2016년 미국 Micron으로부터 20나노 공정 기술을 도입한다는 사실을 알고 온라인 훈련과정을 참여하였고, 휴일을 이용해 사무실에서 PC 화면을 스크린샷하는 방법으로 20나노 D램 공정 관련 서류를 복제하고 인쇄한 후, 이를 암기했으며, 2017년 1월 17일에는 중국에 가서 Xian의 면접을 봤지만 채용되지 않았다. 이후 Nanya는 이직자에 대한 정례적인 복사 기록 검사를 하면서 이(李)씨가 대량으로 복사한 기록을 발견해 자세히 조사한 결과 이(李)씨가 20나노 공정 관련 서류를 모두 인쇄한 것을 발견하고 곧바로 법무부 타오위안(桃園)시 조사처에 이를 통보했으며 검찰 수사 종결 후 이(李)씨를 기소했다.

재판부 심리에서 이(李)씨는 20나노 D램 공정을 소개하는 파워포인트 슬라이드를 스크린샷 방식으로 저장한 뒤 프린터로 인쇄하였고 Xian의 온라인 면접과 중국에 가서 직접 면접을 봤다고는 인정했지만 슬라이드 내용은 영업비밀이 아니며 인쇄한 목적은 스스로 공부하기 위해서일 뿐이었다고 주장했다.

그러나 타오위안(桃園)지법 1심, 지혜재산 및 상사법원 2심은 모두 관련 증거를 통해 이(李)씨가 스크린샷한 문서에는 20나노 D램 공정의 원리, 데이터, 과제, 기술, 실시 및 중요사항 등의 내용이 포함되어 있어 모두 D램 제조에 종사하는 사람이 쉽게 알 수 있는 것이 아니며, 더구나 생산능력이나 반도체 수율에 큰 영향을 미치는 내용으로, 큰 경제적 가치를 갖고 있음을 알 수 있다. 따라서, 이(李)씨가 스크린샷한 자료는 Nanya의 영업비밀로 인정하였다.

재판부의 1,2심에서 이(李)씨가 허락을 받지 않고 Nanya의 영업비밀을 복제해서는 안된다는 사실을 뻔히 알면서도 이직 면접을 위해 큰 경제적 가치가 있고 기업 존속과 관련된 첨단 프로세스 기술을 복제한 점을 고려하였고, 그리고 이(李)씨가 범행을 부인한 점을 참작하여 징역 1년 10월에 처하도록 판결하였다. 대법원은 상고를 기각하여 본건을 확정했다. (2024.03)

역주:
1)    중국어명 台塑集團(혹은 台塑企業), 영어명Formosa Plastic Group (대만 플라스틱)
2)    중국어명 南亞科技股份有限公司, 영어명 Nanya Technology Corporation (Nanya)
3)    중국어명 紫光國芯股份有限公司, 영어명 Xi'an UniIC Semiconductors Co., Ltd. (Xian)