대만 지혜국, 전리(專利)법 부분조문 수정

대만의 전리(專利)¹⁾법은 1944년 5월 29일 제정 공포한 후, 1949년 1월 1일 시행되었다. 그 이후 15차례에 걸친 수정을 거쳤으며, 가장 최근 수정은 2022년 5월 4일 공포, 2022년 7월 1일 시행된 적이 있다.

새롭게 디지털 산업이 급속히 발전해, 디지털 기술을 이용한 화상 디자인이 다양화하는 것에 동반하여, 국제적인 디자인 보호의 동향도 근거해, 또 대만 산업계의 실무적인 요구를 고려해, 이번에 산업이 필요로 하는 디자인 제도를 수정한다:

또한 대만의 역대 사법실무 견해를 참고하여 진정한 전리(專利) 출원권자가 그 권리를 되찾도록 민사경로방식 및 관련 부대체제를 완비하는 것을 목적으로 수정한다. 이를 위하여 「전리(專利)법」 일부 조문을 수정하였고(초안 총 20조, 신설 2조, 수정 17조, 삭제1조), 그 수정내용은 다음과 같다:

1. 디지털 기술을 이용한 그래픽 디자인을 디자인권 보호대상으로 확대

그래픽 디자인은 「물품」에 응용해야 한다는 제한을 완화하고, 그 실시 행위를 명확히 함과 동시에 그에 맞추어 출원 및 그 권리의 범위도 수정한다(수정 조문 제121조, 제124조, 제136조)

2. 「복수 디자인 일괄출원」 제도 도입

헤이그 협정, 유럽연맹(EU), 미국 등의 해외 동향을 참고하여 「복수 디자인 일괄출원」 제도를 도입하고, 그 수정, 무효심판 청구 등의 관련 규정을 아울러 수정한다. (수정 조문 제127조, 제129조, 제139조, 제140조, 제141조의1)

3. 디자인권 특허 유예기간, 12개월 로 수정

디자인권의 유예 기간(신규성 상실 예외기간)은 현행 6개월에서 12개월로 완화된다. (수정조문 제122조, 제142조)

4. 디자인권 출원을 분할 가능한 시기를 디자인 등록 승인후에도 가능하도록 완화

디자인권 등록 출원을 분할할 수 있는 시기를, 현행 「원출원의 재심사 승인전」 이외에 「원출원의 최초심사등록 또는 재심사등록 결정확인서의 송달 후 3개월 이내」도 분할할 수 있도록 완화하고, 그에 맞추어 등록할 수 없는 사유와 무효심판 청구사유도 조정한다.(수정 조문 제130조, 제134조, 제141조)

5. 진정한 권리자가 그 전리(專利)를 받을 권리 또는 전리(專利)권을 되찾는 구제방법

전리(專利)를 받을 권리 또는 전리권의 귀속과 관련된 쟁의에 있어서, 실질상 전리(專利) 소관기관이, 법원과 같이 그 사실증거를 조사하는 것은 곤란하고, 그 쟁의를 효과적으로 해결하는 것이 어렵다. 따라서, 그것을 무효심판 청구사유에서 삭제하고, 민사경로로 쟁의를 해결하여야 할 것으로 정하여 관련 규정을 신설한다. (수정 조문 제10조, 제35조, 제59조, 제69조, 제71조, 제119조, 제140조 및 제141조)

6. 경과 규정을 신설

신구 법률의 이행을 위한 경과규정을 정한다. 동 규정에는 개정 전에 미심결의 무효심판청구는 신법 시행 후에 취하로 간주할 것, 디자인권의 예외기간(Grace Period)을 12개월로, 「복수 디자인 일괄 출원」 제도의 도입 및 분할할 수 있는 시기의 완화(등록결정 확인서 송달 후 3개월 이내라면 분할 가능)의 규정에 관하여 그 출원의 처리원칙 등을 포함한다.(수정 조문 제157조의5) (2024.09)


역주:
1)    전리(專利)는 대만용어 專利에 대한 번역으로, 그 종류에 發明專利(특허권 상당), 新型專利(실용신안권 상당), 設計專利(디자인권 상당)가 있다. 이는 한국의 산업재산권에 대응한다고 볼 수 있다. 단지, 한국은 산업재산권에 상표권을 포함하는 반면, 대만에서는 상표권이 별도로 분류, 관리된다.