특허법 일부 조문 개정안을 예고
K201230Y1 | Feb. 2021(K258) 첫페이지로 이동    
대만 지혜국1)은 2020 년 12 월 30 일자 공고에서 다음과 같이 알렸다. 수년 동안 전국 공업 총회2)와 국가 발전위원회3)의 공공 정책 참여 플랫폼을 통해 업계 관계자와 학자 • 전문가들이 여러 차례에 걸쳐 일본, 미국, 독일 등의 해외 법제를 참고로 산업계의 요구에 입각하여 특허구제 제도를 확립하도록 의견을 제시하였다

더 나은 특허 구제 제도를 구축하고 해외와 보조를 맞추기위해 일본, 미국, 독일등 각국의 특허 구제 제도를 참고로 대만에서 해당 제도 개정의 방향을 신중하게 검토한 결과, 헌법에 명기한 국민의 권익 구제를 보장하고 그 기능을 높인다는 목표 아래 특허 관할 기관에 의한 심사 • 심판 절차를 강화를 위하여 특허 안건의 구제 계층 및 소송 절차를 개정하기로 하였다. 또한 관련 중요 사항을 아울러 개정한다. 이번 개정의 중점은 다음과 같다.
(1) 구제 계층의 통합 : 특허 관할 기관에 의한 특허 출원 안건의 사정이나 특허 권리의 유효성등 안건의 심결에 불복하는 경우 행정 소원을 거치지 않고 직접 소송을 제기할 수 있도록 한다.
(2) 소송 제도의 변화 : 현재 행정 소송에서 민사 소송 절차로 변경한다.
(3) 특허 출원권의 귀속에 관한 분쟁은 민사 소송으로만 해결한다.
(4) 디자인권의 유예기간(Grace Period)를 12 개월로 한다.

이 개정안은 일본, 미국, 독일 등 해외의 입법례 및 실무를 심도있게 연구하고, 여러 차례에 걸쳐 전문가와 학자로 이루어진 자문 회의를 소집하며 사법 법원, 지재법원 및 경제부 심의위원회도 의견을 검토를 거듭하였고 대만의 상황과 실제적 요구를 참작하여 특허법 일부 조문 개정안을 작성했다. (2020.12)

역주:
1) 지혜국은 대만 경제부 지혜재산국(經濟部智慧財產局)을 지칭하며, 한국 특허청에 해당한다.
2) 중국어명 中華民國全國工業總會 영어명Chinese National Association of Industries 
3) 중국어명 國家發展委員會 영어명National Development Council