ハイテク知的財産権に外圧、権利金や勢力拡大の狙い

J000807Y5 2000年9月号(J15)

 先日開かれた「知的財産権施策のハイテク産業への影響について」の研究検討会で、台湾の業界においてはすでに研究開発能力をもっているが、法的環境の制限や内外業者による出願への特許審査員の不公平な扱いなどが原因で、国内業者の特許取得が常に外国業者に一歩立ち後れる、と危機感を匂わせるような意見が述べられている。

台湾の産業及び製品が熾烈な市場争奪戦を勝ち抜くには、研究開発に適した良好な環境の整備及び十分な資金の投入が必要不可欠である。研究開発に取り組もうとしているハイテク産業の業者が勢力範囲の拡大、経済利益の確保を狙う外国業者から高額なロイヤリティーの支払いを強いられるのが現状である。こうした外圧をしのぐために、政府当局によるロイヤリティーの合理化の促進を参加者たちは強く望んでいる。

台湾は国際舞台でハイテク産業の要衝を占めるいる。また国際社会との相関関係も強い。したがって、ハイテク産業のスピーディーな発展に対応するため、如何に産業水準を向上させる原動力を引き出し、知的財産権に関する使用・実施許諾が市場で適正に取引されるようにするか、国内における知的財産権の施策は産、官、学、法曹界にとって当面の緊要課題である。

 

2000.8.7経済日報よ

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