五大特許庁の特許出願件数、欧米中が過去最高を記録 台湾から五大特許庁への出願も依然好調

J120203Y1・J120203Z1 2012年3月号(J151)

 米国、日本、欧州、韓国、中国の五大特許庁は最新の特許・実用新案・意匠出願受理概況を発表している。米国は2011会計年度(2010年10月1日~2011年9月30日)の出願件数が535,465件、欧州は2011年の出願件数が242,642件、中国は1,633,347件に達し、いずれも過去最高を記録した。中国の2011年出願件数成長率は約33.63%に上り、欧州と米国もそれぞれ3.24%、2.92%と小幅増加しており、徐々に金融危機の影響から脱却しつつあることがうかがわれる。
 金融危機から2年が経ち、五大特許庁が2010年に受理した特許・実用新案・意匠出願件数はほぼ安定し、徐々に以前の水準に回復していった。2010年の特許出願件数をみると、中国(1,222,286件)が最も多く、米国(520,277件)やその他の特許庁を大きく上回った(表1の通り)。2010年を2009年と比べると日本(-1.01%)がやや減少した以外はすべて成長しており、とくに中国(25.15%)の成長率が最も高く、欧州(11.21%)やその他の特許庁を大きく上回った。
 五大特許庁が2010年に受理した特許・実用新案・意匠出願件数のうち、中国の成長率が最も高かった。政策による奨励や研究開発の主体による推進がその原因だと考えられる。また、中国の2011年特許出願件数は(526,412件)となり、初めて50万件を突破し、2010年(391,177件)比で34.57%成長している。
 2010年台湾から五大特許庁への出願件数は、中国(22,419件)、米国(20,151件)、日本(3,240件)が多い。2010年の年成長率は、台湾から各五大特許庁への出願件数はすべて成長しており、とくに韓国(57.37%)と欧州(21.67%)への出願件数成長率が高い。
 また順位をみると、台湾は2010年五大特許庁への出願件数がそれぞれ10位以内に入っている。そのうち韓国においては7位から6位へ上昇し、その他は前年の順位を維持している(表2の通り)。
 台湾から海外への特許・実用新案・意匠出願は五大特許庁へ集中しており、毎年優れたパフォーマンスをみせている。これは台湾が高い研究開発力をそなえ、革新力を維持していることを示すものだ。(2012.02)


表1  台湾・米国・日本・欧州・韓国・中国における特許・実用新案・意匠出願件数の推移(2006~2011年)
単位:件

台湾

米国

日本

欧州

韓国

中国

2006

80,988

452,633

456,363

210,800

250,136

573,178

2007

81,834

484,955

443,150

222,600

247,915

694,153

2008

83,613

485,312

434,023

226,000

244,787

828,328

2009

78,425

482,871

388,978

211,344

238,540

976,686

2010

80,494

520,277

385,033

235,029

240,949

1,222,286

2011

82,988

535,465

--

242,642

--

1,633,347

資料出所:台湾・米国・日本・欧州・韓国・中国の特許主務官庁サイト
注:本表の2011年データは日本と韓国でまだ発表されていない。また米国は会計年度(10月1日~翌年9月30日)、その他は1月1日から12月31日を採用。

表2  台湾から米国・日本・欧州・韓国・中国への特許・実用新案・意匠出願件数及び順位の推移(2008~2010年) 
単位:件,%

米国

日本

欧州

韓国

中国

2008

2009

2010

2008

2009

2010

2008

2009

2010

2008

2009

2010

2008

2009

2010

件  数

18,001

18,661

20,151

3,249

2,961

3,240

1,057

1,006

1,224

907

685

1,078 

22,469

21,113 

22,419

年成長率(%)

-2.62

3.67

7.98

-10.00

-8.86

9.42

39.45

-4.82

21.67

-5.82

-24.48

57.37

-1.59

-6.03

6.19

順 位

4

4

4

6

5

5

7

7

7

7

7

6

3

3

3

資料出所:台湾・米国・日本・欧州・韓国・中国の特許主務官庁サイト

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