汎銓科技が光焱科技をシリコンフォトニクス特許権侵害で提訴し、2億新台湾ドルの損害賠償を請求

　汎銓科技股份有限公司（Msscorps Co., Ltd.、以下「汎銓科技」）は（上場企業による）重要事実の開示を行い、次のように発表した。汎銓科技は光焱科技股份有限公司（Enli Technology Co., Ltd.、以下「光焱科技」）が汎銓科技の「光損失測定装置」特許に関連する設備と技術ソリューションを使用していることを最近発見し、特許権が損害を受け続けるのを避けるため、2026年3月25日に知的財産及び商事裁判所に対して訴訟を提起し、光焱科技が汎銓科技の所有する台湾第I870008B号「光損失測定装置」特許権を侵害していると主張し、裁判所に前記被告に対して特許権侵害に係るすべての行為について排除及び防止を命じるよう請求するとともに、2億新台湾ドルの損害賠償を請求した。
　汎銓科技が第I870008B号特許「光損失測定装置」を侵害されたとして提訴したことに対して、光焱科技は、同業者が司法手続き完了前にメディアを通じて情報を発表し、産業界のイノベーションを妨げる行為については遺憾であり、この類の競争手段を厳しく糾弾するとしている。
　光焱科技は以下のように指摘している。双方の測定技術には世代の違いが明らかにあり、汎銓科技が主張している特許は、従来の「金属組織顕微鏡（Metallographic Microscope）」を採用したソリューションで光損失測定を行っているのに対して、光焱科技は次世代の、より先進的な「ハイパースペクトルイメージング技術センサモジュール」をコア技術としており、顧客サイドのシステム（例えばプローブステーション、電気的測定装置）に高度に統合でき、直接シリコンフォトニクス光学検査を行うことができる。その中で、光損失測定は光焱科技のシリコンフォトニクスチップ検査多機能モジュールにおける技術応用の一つにすぎない。古い時代の金属組織顕微鏡特許を持ちだして、新しい世代のハイパースペクトルイメージング技術センサモジュールを提訴するのは、技術的観点から全く受け入れられない。(2026年3月)